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磁控溅射复合多弧离子镀膜设备
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产品介绍
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021-39107008/15300727009

设备简介
磁控溅射复合多弧离子镀膜设备,具备离子清洗、偏压辅助沉积、磁控溅射、多弧离子镀等功能。


优势优点
设备在提高镀膜效率、质量和环保性方面具有显著优势,具有良好的一致性和稳定性。灵活调整和控制镀膜过程,可以应对客户不同的应用需求。并且设备的稳定运行和定期维护减少了生产中断和故障修复时间。结合良好的售后服务等确保了生产过程的高效运行。同时专业的研发人员对涂层工艺不断探索提升,使得涂层性能有显著提升。
设备参数
设备型号 FE-AS系列
腔体规格 依据产品尺寸及产能要求可调
主要配置
镀膜系统 平面磁控溅射阴极、旋转磁控溅射阴极、弧源直流脉冲电源、射频电源、高功率脉冲电源、弧源可选
工装系统 行星结构;挂板分拆;转速调节范围可调
离子源系统 阳极层离子源、热丝离子源 可选
气路系统 工艺气体可选 氩气 氧气 氮气 乙炔 氢气等
加热系统 温度设置范围室温~600℃ 可选;测温方式热电偶
控制系统 西门子PLC、手动控制、自动控制、工艺记录
报警保护系统 自动监控和保护功能。互锁保护、缺水欠压检测与保护、过流过热检测与保护、真空检测与保护、温度检测与保护等
参数指标
极限真空 ≤9.0×10-5Pa(经烘烤除气后),关机12小时后,本底真空小于 10Pa;
真空系统漏率 ≤1.0×10-7Pa•L/S
抽速 室温状态下从大气抽到 5.0×10-3Pa的时间少于30min
行业运用
加工膜层种类 金属、金属化合物、陶瓷材料
产品 氢能源燃料电池双极板
应用领域 PEM电解水制氢、新材料、3C电子等
Cases
应用领域
PEM电解水制氢
新材料
3C电子
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